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Deposición de vapor mediante procesos químicos organometálicos Silicio tensado Epitaxia Germanio-antimonio-telurio Catalizador Ziegler-Natta Isobutilgermano Imanes moleculares Trampa fría Dimetilcadmio Etoxido de tántalo(V) Etóxido de niobio(V) Telurio Cloruro de hafnio(IV) Lanying Lin Heteroestructura Polímero de coordinación Isamu Akasaki Técnicas libres de aire Sulfuro de cadmio Premio ENI
Deposición de vapor mediante procesos químicos organometálicos
Silicio tensado
Epitaxia
Germanio-antimonio-telurio
Catalizador Ziegler-Natta
Isobutilgermano
Imanes moleculares
Trampa fría
Dimetilcadmio
Etoxido de tántalo(V)
Etóxido de niobio(V)
Telurio
Cloruro de hafnio(IV)
Lanying Lin
Heteroestructura
Polímero de coordinación
Isamu Akasaki
Técnicas libres de aire
Sulfuro de cadmio
Premio ENI
Silicio tensado
Epitaxia
Germanio-antimonio-telurio
Catalizador Ziegler-Natta
Isobutilgermano
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Trampa fría
Dimetilcadmio
Etoxido de tántalo(V)
Etóxido de niobio(V)
Telurio
Cloruro de hafnio(IV)
Lanying Lin
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Isamu Akasaki
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Sulfuro de cadmio
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